薄膜材料与薄膜技术（第二版）

薄膜材料与薄膜技术（第二版） 内容提要

    《薄膜材料与薄膜技术（第二版）》系统阐述了薄膜材料与薄膜技术的基本原理和基本知识，重点介绍了薄膜材料的真空制备技术、薄膜的化学制备和物理气相沉积方法、薄膜的形成和生长原理、薄膜的表征，对目前广泛研究和应用的几种主要薄膜材料进行了介绍、评述和展望。 
《薄膜材料与薄膜技术（第二版）》技术先进，内容实用，适合于从事材料研究的科研、技术人员阅读参考，同时也可作为高校材料专业教材使用。 

薄膜材料与薄膜技术（第二版） 目录

第一章 真空技术基础 
第一节 真空的基本知识 
一、表示真空程度的单位 
二、真空区域的划分 
三、固体对气体的吸附及气体的脱阳 
第二节 真空的获得 
一、旋片式机械真空泵 
二、复合分子泵 
三、低温泵 
第三节 真空的测量 
一、电阻真空计 
二、热偶真空计 
三、电离真空计 
参考文献 
第二章 薄膜制备的化学方法 
第一节 热氧化生长 
第二节 化学气相沉积 
一、一般化学气相沉积反应 
二、化学气相沉积制备薄膜的传统方法 
三、激光化学气相沉积 
四、光化学气相沉积 
五、等离子体增强化学气相沉积 
第三节 电镀 
第四节 化学镀 
第五节 阳极反应沉积 
第六节 LB技术 
参考文献 
第三章 薄膜制备的物理方法 
第一节 真空蒸发 
一、真空蒸发沉积的物理原理 
二、真空蒸发技术 
一、溅射的基本原理 
二、溅射镀膜的特点

薄膜材料与薄膜技术（第二版） 前言

    自《薄膜材料与薄膜技术（第二版）》2004年第一版问世以来，因其技术先进、内容实用而深受行业读者的好评，并被许多高校选为教材。近年来，薄膜材料与薄膜技术又有了许多新的发展。特别值得一提的是，2005年英国科学家首次在实验室成功制备出单原子层石墨片，这是迄今为止人们所能得到的最薄的薄膜材料——严格意义上的二维材料。单原子层石墨片的稳定存在一方面突破了传统理论的束缚，另一方面也为纳米器件的实际制作和应用开辟了广阔前景。由此，石墨片二维薄膜材料已经成为当前薄膜材料研究的热门和前沿课题。 
在《薄膜材料与薄膜技术（第二版）》的第二版中，我们将尽可能地反映薄膜材料研究的这一最新进展情况。为此，在第六章中，我们将原来的第四节“三族元素氮化物薄膜材料”的全部内容更换为“石墨片二维薄膜材料”。其他修订内容包括：删去了第三章中过多的物理气相沉积示意图，以使全章篇幅不致过大；在第四章第四节和第六章第三节中，我们又补充了一些相关的薄膜材料最新研究成果和研究进展。此外，对第一版出现的一些错误，特别是文字错误，我们都一一进行了修改。 
王欣博士、田宏伟博士、郑冰博士和于陕升博士等参与了《薄膜材料与薄膜技术（第二版）》部分章节的编写与修订，在此一并表示感谢。 
郑伟涛 

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