金刚石薄膜的制备与应用

金刚石薄膜的制备与应用 内容提要

        具有优异特性的金刚石薄膜是材料界的研究热点之一，在高新科技应用领域具有重要作用。《金刚石薄膜的制备与应用》较全面、系统地介绍了当前国内外有关金刚石薄膜的制备方法和其在高新技术方面的应用。主要内容包括：金刚石薄膜的微观结构；力学、热学、光学、电学特性、传感器、表面声波滤波器、涂层刀具等方面的应用。《金刚石薄膜的制备与应用》的科学性、系统性强，概念清楚，叙述简明扼要，内容上反映了当前学科最前沿水平。《金刚石薄膜的制备与应用》可作为相关专业本科生及研究生的教学参考书，对于从事电子功能薄膜材料和新型刀具研制、生产和使用的专业人员具有一定的参考价值。

金刚石薄膜的制备与应用 目录

第1章 金刚石薄膜的结构、特性及研究现状
 1.1 金刚石薄膜的结构
 1.2 金刚石薄膜的优异特性
 1.3 金刚石薄膜的研究现状
 1.4 金刚石薄膜发展前景
 
第2章 金刚石薄膜的合成方法
 2.1 微波等离子体法
 2.2 等离子体喷射法
 2.3 热丝法
 2.4 其他CVD方法
 
第3章 异质外延和高取向金刚石沉积
 3.1 在各种衬底上的异质外延和高取向金刚石膜
 3.2 在SiC和Si上的成核和生长
 3.3 选择生长和表面形貌
 3.4 异质外延金刚石膜的电学性质
 
第4章 金刚石薄膜的热学、光学和力学性质及应用
 4.1 金刚石膜的热学性质及应用
 4.2 金刚石膜的光学性质及应用
 4.3 金刚石膜的力学性质及涂层刀具
 
第5章 CVD金刚石电子器件
 5.1 有源金刚石膜的生长
 5.2 金刚石薄膜的掺杂
 5.3&n

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